凈化工程有它的特殊性，第一個造價特點貴，隨著半導體工程的發(fā)展，這樣對于工廠的品質要求越來越高，隨著基本尺寸大造價越來越高。無塵室凈化工程設計首先要了解所設計的無塵室凈化工程的用途、使用情況、生產(chǎn)工藝特點等、比如設計的是集成電路生產(chǎn)用無塵室凈化工程。首先要弄清楚產(chǎn)品的特性：集成度、持形尺寸和生產(chǎn)工藝特點;對無塵室凈化工程的要求：空氣潔凈度等級、溫濕度及其控制范圍、防微振、防靜電和高純物質的供應要求等;其次要充分了解業(yè)主擬采用的生產(chǎn)工藝、工藝設備情況和對工藝布局的設想。在此之后，設計人員應協(xié)同業(yè)主確定潔凈廠房各功能區(qū)的區(qū)劃，確定各類生產(chǎn)工序(房間)的空氣潔凈度等級和各種控制參數(shù)：溫度、相對濕度、壓差、微振動、高純物質的純度及雜質含量;

深圳凈化工程中不論外在之空氣條件如何變化，其室內(nèi)均能俱有維持原先所設定要求之潔凈度、溫濕度及壓力等性能之特性。

深圳凈化工程*主要之作用在于控制產(chǎn)品(如硅芯片等)所接觸之大氣的潔凈度日及溫濕度，使產(chǎn)品能在一個良好之環(huán)境空間中生產(chǎn)、制造，此空間我們稱之為無塵室。按照國際慣例，無塵凈化級別主要是根據(jù)每立方米空氣中粒子直徑大于劃分標準的粒子數(shù)量來規(guī)定。也就是說所謂無塵并非100%沒有一點灰塵，而是控制在一個非常微量的單位上。當然這個標準中符合灰塵標準的顆粒相對于我們常見的灰塵已經(jīng)是小的微乎其微，但是對于光學構造而言，哪怕是一點點的灰塵都會產(chǎn)生非常大的負面影響，所以在光學構造產(chǎn)品的生產(chǎn)上，無塵是必然的要求。